MDA-12SA光刻機

MDA-12SA光刻機

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統，光刻機
，紫外曝光機等；

MIDAS為全球半導體設備供應商
，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體、微電子
、生物器件和納米科技領域
；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術

研發力量和設備生產能力

；並且其設備被眾多大型企業
、研發中心、研究所和高校所采用；以優異的技術
、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比

型號：MDA-12SA

廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/

操作簡單，可編程控製器（PLC）操作

，PC控製，圖像采集和數據記錄
，100多個程序配方

，電動操縱杆控製，電動變焦顯微鏡和工作台，顯微鏡位置控製係統

•操縱杆控製
，半自動

•掩模版尺寸高達14英寸

•基板尺寸8~12英寸

•均勻光束尺寸13.25*13.25英寸

•紫外線光源：紫外線燈，2 kW，5 kW

•光束波長：350~450 nm

•光束均勻性：<±5%

•365 nm強度：2 kW:~25 mW/㎠，5 kW:~45 mW/㎠

•定位方法：操縱杆控製
，半自動

•對準精度：1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸