MDA-12FA全自動光刻機

MIDAS SYSTEM公司開發並生產用於半導體、MEMS、LED及(ji)納(na)米(mi)技(ji)術(shu)相(xiang)關(guan)的(de)實(shi)驗(yan)室(shi)和(he)工(gong)業(ye)領(ling)域(yu)的(de)光(guang)罩(zhao)對(dui)準(zhun)曝(pu)光(guang)機(ji)和(he)甩(shuai)膠(jiao)機(ji)，是(shi)韓(han)國(guo)較(jiao)早(zao)研(yan)發(fa)並(bing)商(shang)業(ye)化(hua)光(guang)罩(zhao)對(dui)準(zhun)曝(pu)光(guang)機(ji)的(de)企(qi)業(ye)，始(shi)終(zhong)致(zhi)力(li)於(yu)不(bu)斷(duan)完(wan)善(shan)、增強技術型企業的

核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，並且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-12FA型曝光機是一款MIDAS公gong司si新xin開kai發fa的de產chan品pin，為wei下xia一yi代dai全quan區qu域yu光guang刻ke係xi統tong。這zhe一yi新xin型xing半ban自zi動dong化hua對dui準zhun曝pu光guang平ping台tai具ju有you更geng高gao的de重zhong複fu光guang刻ke精jing度du以yi及ji更geng可ke靠kao的de操cao作zuo，非fei常chang適shi合he陶tao瓷ci及ji其qi他ta探tan針zhen卡ka應ying用yong，同tong時shiMDA-12SA型半動化

光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。

廠家鏈接：www.midas-china.com.cn

MDA-12FA

操作簡單，PLC操作
，PC控製
，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方，輕鬆切換不同產品的工藝參數
；顯微鏡位置控製係統
，自動對齊標記搜索功能，確保了在大尺寸基板上高精度
、高重複性的對準，這是實現穩

定量產的關鍵。

兼容8至12英寸基板，直接對接主流半導體和先進封裝產線。

類型：全自動

掩模版尺寸：上限尺寸14英寸

基板尺寸：8~12英寸

均勻梁尺寸：13.25*13.25英寸

紫外線光源：紫外線燈，2KW，5KW

光束波長：350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強度  2千瓦：~25毫瓦/㎠5千瓦：~45毫瓦/㎠

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬
、真空接觸
、接近

工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度

，真空接觸