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瀏覽器自帶分享功能也很好用哦~MDA-600S光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球半導體設備供應商，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術
研發力量和設備生產能力；並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比。
型號：MDA-600S
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 係統控製：手動、半自動和全自動控製；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤範圍可調；
- 獨特技術：可雙麵對準，可雙麵光刻，具有IR和CCD模式；
- 雙CCD顯微鏡係統，可放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易於操作；
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能。
技術細節：
雙麵工藝的獨門利器：其獨特的雙麵對準與光刻能力是一大亮點。這使其成為製造MEMS傳感器、三維集成器件、射頻器件和特定類型探針卡等需要正反麵圖形精密對準的複雜器件的理想選擇。
功能齊全的曝光工具箱：除常規接觸/接近模式外，還支持投影模式。這種非接觸式曝光能避免掩模版與樣品損傷，在處理大尺寸或表麵不平整的基板（如部分陶瓷或已圖形的襯底）時特別有價值。
高效的半自動操作：雖然是手動對準，但Z軸和Theta軸為電機驅動，並具備自動調平功能。配合可存儲上百個配方的PC係統，能明顯提升重複性工藝的效率和一致性。
高性價比的6英寸平台：在支持6英寸晶圓的半自動/全自動光刻機中，它在提供雙麵曝光、投影模式等高級功能的同時，價格通常比定位更高的全自動對準機型更具競爭力。
MDA-600S光刻機
MDA-600S光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球半導體設備供應商，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術
研發力量和設備生產能力；並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比。
型號：MDA-600S
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 係統控製：手動、半自動和全自動控製；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤範圍可調；
- 獨特技術：可雙麵對準，可雙麵光刻，具有IR和CCD模式；
- 雙CCD顯微鏡係統，可放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易於操作；
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能。
技術細節：
雙麵工藝的獨門利器：其獨特的雙麵對準與光刻能力是一大亮點。這使其成為製造MEMS傳感器、三維集成器件、射頻器件和特定類型探針卡等需要正反麵圖形精密對準的複雜器件的理想選擇。
功能齊全的曝光工具箱：除常規接觸/接近模式外，還支持投影模式。這種非接觸式曝光能避免掩模版與樣品損傷，在處理大尺寸或表麵不平整的基板（如部分陶瓷或已圖形的襯底）時特別有價值。
高效的半自動操作：雖然是手動對準，但Z軸和Theta軸為電機驅動，並具備自動調平功能。配合可存儲上百個配方的PC係統，能明顯提升重複性工藝的效率和一致性。
高性價比的6英寸平台：在支持6英寸晶圓的半自動/全自動光刻機中，它在提供雙麵曝光、投影模式等高級功能的同時，價格通常比定位更高的全自動對準機型更具競爭力。
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