MDE-200SC全自動光刻機

MIDAS SYSTEM公司開發並生產用於半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國研發並商業化光罩對準曝光機的企業

，始終致力於不斷完善、增強技術型企業的核心

競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，並且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDE-200SC型曝光機是一款MIDAS公gong司si新xin開kai發fa的de產chan品pin
，為wei下xia一yi代dai全quan區qu域yu光guang刻ke係xi統tong。這zhe一yi新xin型xing半ban自zi動dong化hua對dui準zhun曝pu光guang平ping台tai具ju有you更geng高gao的de重zhong複fu光guang刻ke精jing度du以yi及ji更geng可ke靠kao的de操cao作zuo，非fei常chang適shi合he陶tao瓷ci及ji其qi他ta探tan針zhen卡ka應ying用yong，同tong時shiMDA-12SA型半動

化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。

廠家鏈接：www.midas-china.com.cn

MDE-200SC

易於操作和安裝，處理各種尺寸的基板，掃描和步進式曝光

類型：掃描步進曝光

掩模版尺寸：大尺寸訂製

基板尺寸：大尺寸訂製

均勻光束尺寸：大尺寸訂製

紫外光源：紫外燈，1KW

光束波長：350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強度 ~25 mW/㎠

對齊方式：無對準

對準精度：無對準

加工方式：軟
、硬、真空接觸
、接近

工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度
，真空接觸

MDE-200SC是一款為解決特定生產瓶頸而生的“特種裝備”。如果您所在的行業（如陶瓷探針卡、平板顯示、大麵積傳感器製造）正受限於現有光刻設備的最大加工尺寸
，那麼它是非常值得考慮的解決方案。