MDA-400LJ/600LJ光刻機

光刻機又名：掩模對準曝光機
，曝光係統，光刻係統，光刻機，紫外曝光機等
；

MIDAS為全球的半導體設備供應商，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體
、微電子、生物器件和納米科技領域
；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的

技術研發力量和設備生產能力
；並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用
；以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機
，高性價比

型號：MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機

MDA-400LJ

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊
，UV-LED壽命長

•手動操作

•掩模版尺寸達5英寸

•基板尺寸為4英寸圓形

•均勻性光束尺寸125mm圓

•UV光源UV LED

•光束波長365 nm

•光束均勻性<±3%

•365 nm強度 ~20 mW/㎠

•手動對準

•對準精度1 um

•操作模式軟

、硬
、真空接觸和接近

•工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接觸

•尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊
，UV-LED壽命長

•手動操作

•掩模版尺寸高達7英寸

•基板尺寸為6英寸圓形

•均勻光束尺寸170 mm圓

•UV光源：UV LED

•光束波長365 nm

•光束均勻性<±5%

•365 nm強度 ~20 mW/㎠

•手動對準

•對準精度1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接觸

•重量（kg）150

•尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）