MDA-80MS光刻機

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統
，光刻機，紫外曝光機等；

MIDAS為全球半導體設備供應商
，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體
、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術

研發力量和設備生產能力；並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優異的技術
、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機
，高性價比。

型號：MDA-80MS

廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/

MDA-80MS

簡單的操作和安裝
，PLC操作與PC控製
，小型半自動係統，圖像抓取和數據記錄，100多個程序配方

•PC控製
，半自動操作

•掩模版尺寸達到9英寸

•基板尺寸為8英寸

•均勻光束尺寸8.25*8.25英寸

•光源：紫外線燈
，1 kW

•光束波長350~450 nm

•光束均勻性 <±5%

•365 nm強度 ~25 mW/㎠

•手動操作

•對準精度1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度
，真空接觸

•尺寸（mm）：1400（寬）*1100（深）*1600（高）

對於LED芯片製造商、以及從事8英寸碳化矽、氮化镓等寬禁帶半導體器件光刻工藝的用戶而言，如果其主要需求是穩定的單層或簡單多層圖形轉移
，並追求高的生產性價比
，那麼MDA-80MS是一款極具吸引力的主力

生產型設備。它在自動化程度上雖不如MDA-40/60FA係列，但在產能和尺寸上更具優勢，是規模化生產的務實之選。