這是一個高價值的直寫激光光刻機係統，它用亞微米像素分辨率的405nm激ji光guang在zai光guang敏min抗kang蝕shi劑ji塗tu層ceng表biao麵mian大da麵mian積ji書shu寫xie。你ni可ke以yi寫xie任ren何he東dong西xi，從cong光guang掩yan膜mo到dao基ji礎chu科ke學xue或huo應ying用yong科ke學xue的de研yan究jiu原yuan型xing
，集ji成cheng相xiang機ji可ke以yi用yong來lai調tiao整zheng現xian有you的de功gong能neng寫xie。

我們對其進行了優化

，以便於使用和簡單維護
，較大限度地利用現成的部件，並保證優異的書寫質量或功能。直接激光光刻技術通過消除光掩模生產對外部供應商的依賴，降低了微流體
、微電子
、微機械和材料科學研究

denglingyudechengbenhezhixingshijian。wuyanmoguangkejishukeyisuiyijinxingnamituanhua，erbuxuyaohuanmanerangguideguangyanmo。zhezhongbianlixingduiyuyanjiuhekuaisuyuanxingzhizuotebieyouyong。zhekuantaishijixing
，zaixingnengshangmeiyourenhetuoxie，conger補充了現有的優勢。

將紫外激光束聚焦到衍射受限的點上
，並掃描該點以曝光光刻膠上的任意圖案。

為了曝光大型晶圓
，精密步進器會移動晶圓，並允許拚接多次曝光。能夠在6英寸晶圓上產生小於（CD）0.5μm的特征。

全新的Gen2 BEAM配件現在將成為所有係統的標準配置。期待高分辨率（<0.5 um）和高速圖案化，以及改進的縫合。

Compact

全功能無掩模光刻，比台式電腦還小。

Powerful

亞微米分辨率，單層曝光時間隻需兩秒鍾

Ultrafast autofocus，

超快自動對焦

當與我們的閉環聚焦光學元件結合時，壓電致動器在不到一秒鍾的時間內到達焦點。

No-fuss multilayer， 多層書寫

半自動對齊允許在幾分鍾內完成多層對齊。

附帶的軟件可以快速完成任何圖案製作工作；隻需加載
、對齊和曝光即可。

導航類似於CNC係統。在多層曝光過程中，GDS圖案被疊加以進行可視化。控製GUI（左窗口）有一個加載的GDS的小地圖，可以一鍵導航到晶圓上的任何區域。

技術指標