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MDA-400M光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球前沿的半導體設備供應商,多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,並且普遍應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上更早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚
的技術研發力量和設備生產能力;並且其設備被眾多有名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
產地:韓國MIDAS公司,能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400M
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/
MDA-400M
易於操作和安裝,處理各種尺寸的基板,帶觸摸屏麵板的PLC控製
•全手動類型
•掩模版尺寸達5英寸
•基板尺寸為4英寸圓形
•均勻光束尺寸4.25*4.25英寸
•光源:紫外線燈,350 W
•光束波長350~450 nm
•光束均勻性<±3%<>
•365 nm強度 ~25 mW/㎠
•手動對準
•對準精度1 um
•操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,帶真空觸點
•尺寸(mm)1080(寬)*1060(深)*1580(高)
MDA-400M光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球前沿的半導體設備供應商,多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,並且普遍應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上更早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚
的技術研發力量和設備生產能力;並且其設備被眾多有名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
產地:韓國MIDAS公司,能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400M
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/
MDA-400M
易於操作和安裝,處理各種尺寸的基板,帶觸摸屏麵板的PLC控製
•全手動類型
•掩模版尺寸達5英寸
•基板尺寸為4英寸圓形
•均勻光束尺寸4.25*4.25英寸
•光源:紫外線燈,350 W
•光束波長350~450 nm
•光束均勻性<±3%<>
•365 nm強度 ~25 mW/㎠
•手動對準
•對準精度1 um
•操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,帶真空觸點
•尺寸(mm)1080(寬)*1060(深)*1580(高)
