掃描開爾文探針

掃描開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置,用於測試導電材料的功函或半導體材料表麵的表麵電勢
，表麵功函。由材料表麵頂部的1-3層原子或分子決定
，因而開爾文探針是一種非常靈敏的表麵分析技術。

KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV業界較高分辨率的測試係統。

主要特點：
● 功函分辨率< 3meV
● 掃描麵積：5mm to 300mm（四種型號，每種型號掃描麵積不同）
● 掃描分辨率：317.5nm
● 自動高度調節
應用領域：
● 有機和非有機半導體，

● 金屬

● 薄膜
● 太陽能電池和有機光伏材料
● 腐蝕
升級附件：
● 大氣光子發射係統
● 表麵光電壓(QTH or LED)
● SPS表麵光電壓光譜(400-1000nm)
● 金或不鏽鋼探針，直徑0.05mm to 20mm
● 相對濕度控製和氮氣環境箱

掃描開爾文探針係統是表麵功函測量技術的較高水平
，係統特別適合半導體器qi件jian研yan發fa實shi驗yan室shi，光guang伏fu材cai料liao與yu器qi件jian研yan究jiu機ji構gou，腐fu蝕shi科ke學xue與yu防fang護hu工gong程cheng團tuan隊dui，表biao麵mian科ke學xue和he界jie麵mian物wu理li研yan究jiu組zu，先xian進jin功gong能neng材cai料liao開kai發fa企qi業ye。其qi主zhu要yao價jia值zhi

在於1-3 meV分辨率是業內典範，為表麵科學研究提供前所未有的細節的靈敏度，從基礎表麵科學到工業質量控製
，覆蓋半導體、光伏、腐蝕防護等多個關鍵領域的應用適用性，光激發係統的集成將傳統SKP擴展為

完整表麵光電特性分析平台
，且既滿足實驗室精密測量的要求，又具備工業環境下的穩定性和重複性的工業級設計。憑借其超高分辨率、非接觸測量和多功能擴展的特點，這款掃描開爾文探針係統已成為表麵電子特

性表征領域不可或缺的工具，為新材料開發、器件優化和質量控製提供關鍵的技術支持。