PL SERIES

Midas推出了一種台式、單獨的納米壓印平台：PL係列PL 200/400/600。該平台提供了一個帶有微定位裝置的機械平台
，用於安裝納米壓印室
、UV固化源和校準顯微鏡。它既可以作為納米壓印係統，也可以作為傳統的

掩模對準器
，同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控製。

通過帶有微定位裝置的機械平台和納米壓印腔室，可以直接將模板上的納米圖案通過物理壓印和紫外固化的方式複製到基板的聚合物（如壓印膠）上。

在移除或更換部分組件後，可利用其自帶的UV光源和校準顯微鏡進行常規的紫外光刻。這種設計為研發提供了極大的工藝靈活性和兼容性。

•基板尺寸 PL 200:2英寸，PL 400:4英寸，PL 600:6英寸（尺寸較小
，形狀不規則）

能夠處理小尺寸
、不規則形狀的樣品（如芯片、小片），這對於前期昂貴的材料或器件原型開發至關重要。

•壓印麵積與晶圓尺寸相同

•模板尺寸  PL 200:2
，1英寸，PL 400:4
，3，1英寸，PL 600:6
，4，2
，1英寸

•壓印壓力1 psi標準

•包括模具/基板自動釋放-無需特殊工具

•95%強度水平下的紫外線照射時間2~3分鍾

•對準能力X
、Y、Z和θ（精度2μm）

2µm的對準精度對於許多微納器件（如光子晶體、生物傳感器、某些MEMS）的研發已足夠，且可編程自動控製功能方便了工藝的標準化和重複。

如果您的研究或生產需要突破傳統光刻的分辨率極限
，實現10納米至數百納米特征的圖形化，並且看重設備的靈活性和桌麵化，那麼EZImprinting的PL係列是一個極具競爭力的專業選擇。它特別適合高校、研究所及企業

研發部門在光子學
、生物傳感、新材料等前沿領域進行探索。