主要特點:

• 通過結合納米顆粒和薄膜生成複雜材料

• 使用 NL-UHV 的無烴納米顆粒

• UHV 係統
  ，帶負載鎖定、烘烤和泵送升級選項

• 渦輪/幹式前級泵送組合

• 共聚焦端口幾何結構，更多可容納 5 個源

• 與第三方來源兼容

• 具有旋轉
  、加熱和偏置選項的基材塗層

• 聯鎖裝置，保護人員和設備

• 全自動和配方驅動的軟件

基本係統配置:

沉積室的大小 : 450 毫米

基礎壓力 :< 5e– 7托

取向 : 濺射

示例表 : 4 英寸晶圓，20rpm 旋轉，Z 軸偏移，用於樣品裝載/卸載

泵 : 300 升/秒渦輪增壓器，7.2 米3/hr 幹式前級泵

閥 : 手動閥
、百葉窗和線性驅動器

控製軟件 : 配方驅動過程、電源控製和數據記錄

原位監測 : 用於過程監控和終點檢測的石英晶體微量天平

源端口 : 多達 5 個沉積源2 個共聚焦 CF150 和 3 個共聚焦 CF100 源端口

源類型 : 納米顆粒源 /磁控濺射源、微型電子束蒸發器
、熱舟源、K 池、離子源、射頻原子源

選項:

• 5e– 9Torr 極限壓力（帶烘烤選項）

• 樣品台：

– 用於納米粒子加速的直流偏壓

– 用於樣品表麵清潔的射頻偏置

– 加熱至 800°C

• 泵送 – 700l/s 渦輪增壓器

• 帶傳輸臂的單獨泵送負載鎖

• 係統烘焙

• 閥門、百葉窗和線性驅動器的自動化選項

• 渦輪前方的可調節擋板，以增加動態壓力範圍，以便在較低氣體流量下進行濺射

NEXUS 係統配置選項

控製軟件

Spectrum Software 手冊

直觀的“拖放”用戶界麵易於使用，並允許完全自動化的抽真空和沉積序列。

突出

⇒ 全自動抽空和排氣

⇒ 配置虛擬機架以適合您的流程

⇒ 易於添加和刪除儀器

⇒ 實時圖表

⇒ 聯鎖監控

⇒ 配方控製

⇒ 數據記錄功能