納米顆粒和薄膜的模塊化PVD係統

主要特點

• 通過結合納米顆粒和薄膜生成複雜材料

• 使用 NL-UHV 的無烴納米顆粒

• 寬敞且易於訪問的腔室
  ，非常適合精密和複雜的基材

• 向上或向下的源配置

• 與第三方來源兼容

• 使用旋轉、加熱和偏置選項對 3D 對象進行塗層

• 全自動和配方驅動的軟件

基本係統配置

• 沉積室的大小 : 450 x 450 x 450 毫米

• 基礎壓力 : < 5e– 7托

• 取向 : 濺射

• 示例表 : 4 英寸晶圓，20rpm 旋轉

• 泵: 700 升/秒渦輪增壓器，7.2 米3/hr 幹式前級泵

• 閥: 手動閥、百葉窗和線性驅動器

• 控製軟件 : 配方驅動過程
  、電源控製和數據記錄

• 原位監測 : 用於過程監控和終點檢測的石英晶體微量天平

• 源端口 : 多達 6 個沉積源

• 源類型: 納米粒子源、磁控濺射源
  、迷你電子束蒸發器、熱舟源K 池、離子源
  、射頻原子源

選項

• 可拆卸的沉積屏蔽層

• 朝上的源幾何體

• 樣品台：

– 用於納米粒子加速的直流偏壓

– 用於樣品表麵清潔的射頻偏置

– 加熱至 800°C

• 閥門、百葉窗和線性驅動器的自動化選項

• 渦輪前方的可調節擋板，以增加動態壓力範圍，以便在較低氣體流量下進行濺射

• 帶傳輸臂的單獨泵送負載鎖

控製軟件

Spectrum Software Brochure

直觀的“拖放”用戶界麵易於使用，並允許完全自動化的抽真空和沉積序列。

特征：

⇒全自動抽空和排氣

⇒ 配置虛擬機架以適合您的流程

⇒ 易於添加和刪除設備

⇒ 實時圖表

⇒ 連鎖監控

⇒ 配方控製

⇒ 數據記錄功能