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MOKE係統
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產品描述:MOKE係統
產品詳情

MOKE係統

超高真空係統用於對超薄磁膜和多層電子束蒸發的薄膜沉積進行現場實時磁光克爾效應研究。

  • 本底真空範圍 10-10mbar, 150°C烘烤

  • 垂直於樣品排列的磁極

  • 磁極間場域 > 0.17 特斯拉

  • 4 軸超高真空樣品操縱器,用於操作樣品夾具

  • 樣品加熱至800°C,以及使用液氮LN冷卻

  • MOKE室光學係統(調節器、極化器、光電探測器、激光)

  • 帶設備的整個腔室安裝在定位台上

  • 真空手提箱,便於運輸

係統特點:

  • 沉積過程中的真空:~1x10-8 mbar

  • 沉積技術:電子束蒸發(EB)

  • 表征技術:MOKE

  • 厚度測量:使用石英晶體顯示器

  • 更大場域: ~0.3T

  • 電源: 400W

  • 模塊化設計允許連接沉積模塊(MBE、PLD、磁控濺射)或分析模塊(XPS、UPS、ARPES IR等)

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MOKE係統

超高真空係統用於對超薄磁膜和多層電子束蒸發的薄膜沉積進行現場實時磁光克爾效應研究。

  • 本底真空範圍 10-10mbar, 150°C烘烤

  • 垂直於樣品排列的磁極

  • 磁極間場域 > 0.17 特斯拉

  • 4 軸超高真空樣品操縱器,用於操作樣品夾具

  • 樣品加熱至800°C,以及使用液氮LN冷卻

  • MOKE室光學係統(調節器、極化器、光電探測器、激光)

  • 帶設備的整個腔室安裝在定位台上

  • 真空手提箱,便於運輸

係統特點:

  • 沉積過程中的真空:~1x10-8 mbar

  • 沉積技術:電子束蒸發(EB)

  • 表征技術:MOKE

  • 厚度測量:使用石英晶體顯示器

  • 更大場域: ~0.3T

  • 電源: 400W

  • 模塊化設計允許連接沉積模塊(MBE、PLD、磁控濺射)或分析模塊(XPS、UPS、ARPES IR等)

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