我司提供的熱舟蒸發源可以用來實現輕薄薄膜金屬沉積，這款熱舟蒸發源是由高質量，完全與高真空兼容材料構成
，並且可以烘烤至250℃。

應用範圍：

• 薄層沉積；

• 光學塗覆
  ；

• 混合層沉積；

• 金屬電極接觸。

配置參數：

• 按照客戶需求定製熱舟蒸發源

• 手動/馬達驅動 擋板

• 超高真空下,可加熱到250度

• 最大工作電流 100A

• 配備擋板

特點與優勢：

1. 超高真空兼容性

• 采用特殊設計和材料，完全兼容超高真空係統

• 可耐受250℃高溫烘烤，有效去除汙染物和水分

• 確保薄膜沉積的高純度和優異質量

2. 精密薄膜控製

• 專為實現輕薄均勻的金屬薄膜沉積而優化

• 沉積速率穩定可控
  ，薄膜厚度精確可調

• 適合從納米級到微米級的多尺度薄膜製備

3. 靈活定製設計

• 可根據客戶具體需求定製熱舟尺寸和形狀

• 支持多種蒸發材料，包括各類金屬和合金

• 模塊化設計便於係統集成和維護

我司熱舟蒸發源以其優異的真空兼容性、靈活的定製能力和可靠的性能表現，成為薄膜製備領域的推薦設備，為科研和工業應用提供高質量的薄膜沉積解決方案。