電子束蒸發源

電子束蒸發源，對於使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比於通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質的限製。

我司提供的這款電子束蒸發源是由高質量，完全與高真空兼容材料構成，並且可以烘烤至250℃。

應用領域：

表麵科學

金屬薄膜接觸腳

MBE摻雜應用

型號參數：

多種不同型號提供不同功率的電子束蒸發源，500W，甚至按照客戶需要提供更高功率的電子束蒸發源。

提供Flux電流監控，監控蒸鍍速率。

坩堝容量小
，節約靶材
，提供0.21 mm3，1000 mm3的坩堝。

在高真空中
，可以烘烤至250℃。

自動化軟件控製
；

手動/馬達驅動擋板；

占用腔體空間小

冷卻水流量小

這款電子束蒸發源是針對 高難度材料沉積 和 高標準真空環境的工具。它將強大的加熱能力
、精密的工藝控製與優異的真空兼容性融為一體，完美解決了傳統蒸發技術在高熔點
、高純度材料製備中的痛點。對於從事前

沿材料研究、半導體工藝開發或精密光學鍍膜的實驗室及生產線而言

，它是實現高質量、可重複薄膜沉積的 可靠且不可或缺的關鍵部件。其靈活的配置選項（功率

、坩堝、控製方式）也確保了它能適應從基礎研發到小

批量生產的各種需求。