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紅外光晶圓鍵合檢測裝置
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矽對紅外光是透明的。我們的紅外光晶圓鍵合檢測設備(WBI)從背麵照亮矽基板,並捕獲滲透到基板中的光。因此,可以檢查從外部看不到的兩個矽基板之間的現象。

檢查裝置配備有紅外光源和準直器光學器件,該準直器光學器件用具有均勻強度的光束照射晶片。紅外感應攝像頭通過USB接口在您的計算機上顯示被檢查基板的圖像。相機的視野和放大倍數可以手動調整。

我們為100毫米、150毫米和200毫米晶圓製造紅外檢測設備。較小的晶片可以通過適配器環進行可視化。200毫米版本配備了電動晶片架,可以在更高的放大倍數下檢查整個晶片。
產品詳情

矽對紅外光是透明的。我們的紅外光晶圓鍵合檢測設備(WBI)從背麵照亮矽基板,並捕獲滲透到基板中的光。因此,可以檢查從外部看不到的兩個矽基板之間的現象。

檢查裝置配備有紅外光源和準直器光學器件,該準直器光學器件用具有均勻強度的光束照射晶片。紅外感應攝像頭通過USB接口在您的計算機上顯示被檢查基板的圖像。相機的視野和放大倍數可以手動調整。

我們為100毫米、150毫米和200毫米晶圓製造紅外檢測設備。較小的晶片可以通過適配器環進行可視化。200毫米版本配備了電動晶片架,可以在更高的放大倍數下檢查整個晶片。

為了實現晶圓的可視化,需要一台帶有USB端口和Windows 2000或更高版本的個人電腦。

技術參數:

WBI100:更大100mm/4“,更小可視特征尺寸(=1像素):100μm,視場(直徑):100mm

WBI150:更大150mm/6“,更小可視特征尺寸(=1像素):150μm,視場(直徑):150mm

WBI200:高達200mm/8“,更小可視特征尺寸(=1像素):200μm,視場(直徑):200mm

相機:單色140萬像素近紅外相機,帶USB 2.0輸出

紅外光源波長:1μm

電源:230伏交流電,50赫茲

功耗:125 VA

尺寸(寬x深x高):380 x 460 x 1810立方毫米

重量:40kg

占地麵積:380 x 460平方毫米

安裝要求:帶USB 2.0端口的PC或筆記本電腦,微軟操作係統(Windows 2000或更高版本)

圖像可視化:在PC上查看相機圖像,提供幀抓取和可視化軟件

隨意的

變焦光學:晶圓尺寸和ø20mm之間的視場

圖像分析軟件可應要求提供

檢查結果示例

紅外圖像示例:

第一張圖片顯示了熔融鍵合後的兩個矽片(圖片由CSEM SA提供)。總厚度為1.0mm。兩個晶片之間的未粘合區域由幹涉圖案顯示。

第二張圖片顯示了預結構化晶片的結合。規則圖案由蝕刻腔組成。邊界處的幹涉圖案也表明該區域的粘合不良。

紅外光晶圓鍵合檢測裝置
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檢查裝置配備有紅外光源和準直器光學器件,該準直器光學器件用具有均勻強度的光束照射晶片。紅外感應攝像頭通過USB接口在您的計算機上顯示被檢查基板的圖像。相機的視野和放大倍數可以手動調整。

我們為100毫米、150毫米和200毫米晶圓製造紅外檢測設備。較小的晶片可以通過適配器環進行可視化。200毫米版本配備了電動晶片架,可以在更高的放大倍數下檢查整個晶片。
產品詳情

矽對紅外光是透明的。我們的紅外光晶圓鍵合檢測設備(WBI)從背麵照亮矽基板,並捕獲滲透到基板中的光。因此,可以檢查從外部看不到的兩個矽基板之間的現象。

檢查裝置配備有紅外光源和準直器光學器件,該準直器光學器件用具有均勻強度的光束照射晶片。紅外感應攝像頭通過USB接口在您的計算機上顯示被檢查基板的圖像。相機的視野和放大倍數可以手動調整。

我們為100毫米、150毫米和200毫米晶圓製造紅外檢測設備。較小的晶片可以通過適配器環進行可視化。200毫米版本配備了電動晶片架,可以在更高的放大倍數下檢查整個晶片。

為了實現晶圓的可視化,需要一台帶有USB端口和Windows 2000或更高版本的個人電腦。

技術參數:

WBI100:更大100mm/4“,更小可視特征尺寸(=1像素):100μm,視場(直徑):100mm

WBI150:更大150mm/6“,更小可視特征尺寸(=1像素):150μm,視場(直徑):150mm

WBI200:高達200mm/8“,更小可視特征尺寸(=1像素):200μm,視場(直徑):200mm

相機:單色140萬像素近紅外相機,帶USB 2.0輸出

紅外光源波長:1μm

電源:230伏交流電,50赫茲

功耗:125 VA

尺寸(寬x深x高):380 x 460 x 1810立方毫米

重量:40kg

占地麵積:380 x 460平方毫米

安裝要求:帶USB 2.0端口的PC或筆記本電腦,微軟操作係統(Windows 2000或更高版本)

圖像可視化:在PC上查看相機圖像,提供幀抓取和可視化軟件

隨意的

變焦光學:晶圓尺寸和ø20mm之間的視場

圖像分析軟件可應要求提供

檢查結果示例

紅外圖像示例:

第一張圖片顯示了熔融鍵合後的兩個矽片(圖片由CSEM SA提供)。總厚度為1.0mm。兩個晶片之間的未粘合區域由幹涉圖案顯示。

第二張圖片顯示了預結構化晶片的結合。規則圖案由蝕刻腔組成。邊界處的幹涉圖案也表明該區域的粘合不良。

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