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MDA-80SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球半導體設備供應商,多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,並且廣泛應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技
術研發力量和設備生產能力;並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
產地:韓國MIDAS公司,能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-80SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/
易於操作的用戶界麵,PLC操作與PC控製,圖像抓取和數據日誌,100多個程序配方,電動操縱杆控製,電動變焦顯微鏡和樣品台
•操縱杆控製,半自動
•掩模版尺寸高達9英寸
•基板尺寸6~8英寸
•均勻光束尺寸10.25*10.25英寸
•紫外線光源:紫外線燈,2 kW
•光束波長350~450 nm
•光束均勻性<±5%
•365 nm強度~25 mW/㎠
•定位方法:操縱杆控製,半自動
•對準精度1 um
•操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸
MDA-80SA是一款“小而精”的半自動光刻解決方案。如果您的研發或生產主要圍繞6英寸或8英寸基板展開,既需要超越純手動機型的效率和工藝管理能力,又希望控製投資成本,那麼MDA-80SA是一個非常匹配且高
性價比的選擇。
MDA-80SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球半導體設備供應商,多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,並且廣泛應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技
術研發力量和設備生產能力;並且其設備被眾多大型企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
產地:韓國MIDAS公司,能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-80SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/
易於操作的用戶界麵,PLC操作與PC控製,圖像抓取和數據日誌,100多個程序配方,電動操縱杆控製,電動變焦顯微鏡和樣品台
•操縱杆控製,半自動
•掩模版尺寸高達9英寸
•基板尺寸6~8英寸
•均勻光束尺寸10.25*10.25英寸
•紫外線光源:紫外線燈,2 kW
•光束波長350~450 nm
•光束均勻性<±5%
•365 nm強度~25 mW/㎠
•定位方法:操縱杆控製,半自動
•對準精度1 um
•操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸
MDA-80SA是一款“小而精”的半自動光刻解決方案。如果您的研發或生產主要圍繞6英寸或8英寸基板展開,既需要超越純手動機型的效率和工藝管理能力,又希望控製投資成本,那麼MDA-80SA是一個非常匹配且高
性價比的選擇。
