MDA-40FA/60FA全自動光刻機

MIDAS SYSTEM公司開發並生產用於半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國研發並商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力於不斷完善、增強技術型企業的核心

競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊
，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，並且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-40FA/60FA型曝光機是一款MIDAS公(gong)司(si)新(xin)開(kai)發(fa)的(de)產(chan)品(pin)

，為(wei)下(xia)一(yi)代(dai)全(quan)區(qu)域(yu)光(guang)刻(ke)係(xi)統(tong)。這(zhe)一(yi)新(xin)型(xing)半(ban)自(zi)動(dong)化(hua)對(dui)準(zhun)曝(pu)光(guang)平(ping)台(tai)具(ju)有(you)更(geng)高(gao)的(de)重(zhong)複(fu)光(guang)刻(ke)精(jing)度(du)以(yi)及(ji)更(geng)可(ke)靠(kao)的(de)操(cao)作(zuo)，非(fei)常(chang)適(shi)合(he)陶(tao)瓷(ci)及(ji)其(qi)他(ta)探(tan)針(zhen)卡(ka)應(ying)用(yong)，同(tong)時(shi)MDA-12SA型

半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。

廠家鏈接：www.midas-china.com.cn

MDA-40FA

操作簡單，PLC操作
，PC控製，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方
，顯微鏡位置控製係統，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：上限尺寸5英寸

基板尺寸：2~4英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±3%

365 nm強度  ~25 mW/㎠

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬

、真空接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸

MDA-60FA

操作簡單，PLC操作
，PC控製
，圖像采集和數據記錄
，100多個程序配方，顯微鏡位置控製係統，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：上限尺寸7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±5%

365 nm強度  ~25 mW/㎠

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬
、真空接觸
、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸