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金屬有機化合物化學氣相沉積
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產品描述:金屬有機化合物化學氣相沉積
產品詳情

金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD)

我們提供了一套完整的MOCVD,主要產品包括台式研發型、中zhong試shi型xing和he生sheng產chan型xing。其qi反fan應ying器qi的de設she計ji可ke以yi根gen據ju工gong藝yi的de需xu要yao很hen容rong易yi提ti升sheng到dao滿man足zu大da直zhi徑jing晶jing片pian生sheng產chan的de需xu要yao。我wo們men也ye能neng為wei客ke戶hu設she計ji以yi滿man足zu客ke戶hu特te殊shu工gong藝yi和he應ying用yong的de需xu要yao。

係統部件包括:反應器、氣體傳輸係統、電氣控製係統和尾氣處理係統.

應用方向:氧化物、氮化物、碳化物、硫族(元素)化物、半導體等。

提供適用不同材料研究需要的反應器:

透明導體氧化物(TCO)應用於LCD、太陽能電池、透明加熱器、電極、LED、OLED等方麵包括:P型ZnO, ITO, SrCuO,MgAlO,SrRuOm等MOCVD係統;

MEMS & MOEMs包括:PZT, ZrO, NbO,LiNbO, TiO2,SiO2,PbMgO, CMO,Ta2O5等MOCVD係統;

儲存器 (DRAM & NVRAM)介電/鈍化材料應用於柵極、介電層、鐵電、高頻設備、鈍化、保護層等,包括:BST,PZT, SBT, CMO, BLT,Hf(Si)O, Ta2O5,,Zr(Si)O,Al2O3, MgO等MOCVD係統;

波導, 光電, WDMs. MOEMS 等材料,包括:YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN,SiC, Al, W, Cn等MOCVD係統;

其他材料如:超導、氮化物、氧化物、磁性材料、包括:YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN,SiC, Al, W, Cn等MOCVD係統;

金屬及合金, 氧化物, 氮化物, III-V, II-VI,...;

半導體: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...;

氮化物及合金: GaN, AlN, GaAs, GaAsN...;

高介電材料:SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)...;

鐵電材料: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…;

超導材料:YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …;

壓電材料: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, 改性鈦酸鉛...;

金屬:Pt, Cu,...;

巨磁阻材料...;

熱塗層, 阻擋層, 機械塗層, 光學材料...。

我們提供了從桌麵型反應器(針對研究和提高的需要)daozidonghuashengchanxitong。chuyucailiaobianhuazhongleideshiyingxinghejingjijiagedekaolv,duirenheyanjiurenyuanlaishuozhuomianxingfanyingqishigengheshidexuanze,erqieyejirongyishengjiweiliangchanxing。

科研型MOCVD設備,包含液體直接注入ALD工藝,同一腔室完成沉積和退火。

-更低的設備及使用成本、更少的前驅體源使用、更小的腔體尺寸、跟高的薄膜沉積品質!

-非常適合高校及研究所科研使用!

儀器參數:

1/ 1~4英寸MOCVD係統;

2/ 專為滿足科研單位需求而設計;

3/ MOCVD係統可在不同基底上,以MOCVD方式,在固體、液體有機金屬基源上沉積氧化物、氮化物、金屬、III-V 和 II-VI膜層;

4/ MOCVD配有前驅體直接處理單元,可在大範圍內使用MO源,用於外延材料的研發和製備;

5/ MOCVD腔室中的紅外燈加熱係統可實現在線退火工藝;

性能及特點:

1, 溫度範圍: 室溫至1200°C ;

2, 帶質量流量控製器的氣體混合性能;

3, 真空範圍: ~ 10-3 Torr,可選配高真空;

4, 選配手套箱;

5, 已被客戶普遍接受

6, 堅固耐用

7, 可靠性高

8, 良好的可重複性

9, 經濟適用

金屬有機化合物化學氣相沉積

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金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD)

我們提供了一套完整的MOCVD,主要產品包括台式研發型、中zhong試shi型xing和he生sheng產chan型xing。其qi反fan應ying器qi的de設she計ji可ke以yi根gen據ju工gong藝yi的de需xu要yao很hen容rong易yi提ti升sheng到dao滿man足zu大da直zhi徑jing晶jing片pian生sheng產chan的de需xu要yao。我wo們men也ye能neng為wei客ke戶hu設she計ji以yi滿man足zu客ke戶hu特te殊shu工gong藝yi和he應ying用yong的de需xu要yao。

係統部件包括:反應器、氣體傳輸係統、電氣控製係統和尾氣處理係統.

應用方向:氧化物、氮化物、碳化物、硫族(元素)化物、半導體等。

提供適用不同材料研究需要的反應器:

透明導體氧化物(TCO)應用於LCD、太陽能電池、透明加熱器、電極、LED、OLED等方麵包括:P型ZnO, ITO, SrCuO,MgAlO,SrRuOm等MOCVD係統;

MEMS & MOEMs包括:PZT, ZrO, NbO,LiNbO, TiO2,SiO2,PbMgO, CMO,Ta2O5等MOCVD係統;

儲存器 (DRAM & NVRAM)介電/鈍化材料應用於柵極、介電層、鐵電、高頻設備、鈍化、保護層等,包括:BST,PZT, SBT, CMO, BLT,Hf(Si)O, Ta2O5,,Zr(Si)O,Al2O3, MgO等MOCVD係統;

波導, 光電, WDMs. MOEMS 等材料,包括:YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN,SiC, Al, W, Cn等MOCVD係統;

其他材料如:超導、氮化物、氧化物、磁性材料、包括:YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN,SiC, Al, W, Cn等MOCVD係統;

金屬及合金, 氧化物, 氮化物, III-V, II-VI,...;

半導體: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...;

氮化物及合金: GaN, AlN, GaAs, GaAsN...;

高介電材料:SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)...;

鐵電材料: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…;

超導材料:YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …;

壓電材料: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, 改性鈦酸鉛...;

金屬:Pt, Cu,...;

巨磁阻材料...;

熱塗層, 阻擋層, 機械塗層, 光學材料...。

我們提供了從桌麵型反應器(針對研究和提高的需要)daozidonghuashengchanxitong。chuyucailiaobianhuazhongleideshiyingxinghejingjijiagedekaolv,duirenheyanjiurenyuanlaishuozhuomianxingfanyingqishigengheshidexuanze,erqieyejirongyishengjiweiliangchanxing。

科研型MOCVD設備,包含液體直接注入ALD工藝,同一腔室完成沉積和退火。

-更低的設備及使用成本、更少的前驅體源使用、更小的腔體尺寸、跟高的薄膜沉積品質!

-非常適合高校及研究所科研使用!

儀器參數:

1/ 1~4英寸MOCVD係統;

2/ 專為滿足科研單位需求而設計;

3/ MOCVD係統可在不同基底上,以MOCVD方式,在固體、液體有機金屬基源上沉積氧化物、氮化物、金屬、III-V 和 II-VI膜層;

4/ MOCVD配有前驅體直接處理單元,可在大範圍內使用MO源,用於外延材料的研發和製備;

5/ MOCVD腔室中的紅外燈加熱係統可實現在線退火工藝;

性能及特點:

1, 溫度範圍: 室溫至1200°C ;

2, 帶質量流量控製器的氣體混合性能;

3, 真空範圍: ~ 10-3 Torr,可選配高真空;

4, 選配手套箱;

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6, 堅固耐用

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