脈衝激光分子束外延係統(PLD MBE)

憑借著優異的性能, PVD公司生產的脈衝激光沉積分子束外延係統在國內外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延製備的新篇章。歡迎前來參觀谘詢。

PVD公司是美國主要製造商，是一家專業從事脈衝激光沉積分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉積係統及組件的設計和製造的公司，提供超高真空薄膜沉積係統，應用於分子束外延
、UHV濺射和脈衝激光沉積。產品主要集中在小型研究開發係統，其應用主要包括：

用分子束外延進行半導體材料、ZnO
、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長
；

UHV磁控濺射磁性薄膜；

脈衝激光沉積超導薄膜、氧化物和陶瓷材料。

儀器主要配置：

主腔室
，樣品傳輸腔，1100度加熱係統，樣品旋轉，PLD靶材操控器及光路，K-cell熱蒸發源
，電子束蒸發源，射頻RF離子源。

應用主要包括：

分子束外延係統（MBE）；

GaAs
、InP和GaSb外延；

HgCdTe外延
；

GaN、InN和AlN外延
；

Ⅱ-Ⅵ族外延

；

SiGe外延


；

Si/金屬/氧化物外延
；

超高真空物理氣相沉積（PVD）係統
；

磁控濺射係統；

脈衝激光沉積（PLD）係統；

電子束蒸發係統；

離子束沉積係統；

熱蒸發係統。

PVD公司已經在全球範圍內安裝了超過100套(tao)的(de)超(chao)高(gao)真(zhen)空(kong)係(xi)統(tong)。絕(jue)大(da)部(bu)分(fen)的(de)產(chan)品(pin)都(dou)是(shi)針(zhen)對(dui)用(yong)戶(hu)定(ding)製(zhi)設(she)計(ji)複(fu)雜(za)的(de)沉(chen)積(ji)係(xi)統(tong)。在(zai)標(biao)準(zhun)係(xi)統(tong)製(zhi)造(zao)業(ye)中(zhong)有(you)著(zhe)深(shen)厚(hou)的(de)為(wei)用(yong)戶(hu)定(ding)製(zhi)設(she)計(ji)的(de)背(bei)景(jing)
，在(zai)用(yong)戶(hu)中(zhong)具(ju)有(you)很(hen)好(hao)的(de)聲(sheng)譽(yu)。許(xu)多(duo)的(de)標(biao)準(zhun)係(xi)統(tong)更(geng)初(chu)都(dou)是(shi)起(qi)源(yuan)於(yu)針(zhen)對(dui)某(mou)些(xie)客(ke)戶(hu)對(dui)沉(chen)積(ji)過(guo)程(cheng)特(te)殊(shu)需(xu)求(qiu)的(de)解(jie)決(jue)方(fang)案(an),與廣大的中國用戶開展更為普遍的交流與合作，為廣大的中國用戶提供國際前沿PLD MBE和超高真空薄膜沉積係統製造商的產品和服務。